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Azido光起始劑之合成開發Preparation of Azido Photoinitators
  發表日期(Date): 2009/3/30 
鄭功龍
技術名稱 : Azido光起始劑之合成開發
Preparation of Azido Photoinitators
技術簡介 : 此技術為Azido光起始劑之新製程,原料是4-Acetamidobenzenesulfonyl chloride,技術應用之最大效益,在於IC級介電晶圓級構裝材料主成份,可進行本土性之生產與降低成本,有效取代進口產品。已進行專利申請,包含中華民國專利、美國專利與日本專利等方面。
技術規格 : 總產率≧69%,純度≧99%,UV (max (MeOH):286nm ((=1.92×104)
*技術特色 : 放大與製造容易,極具產業價值。
*競爭力 : 成本效益高,競爭力高。
*技術發展與突破之重點 : 技術發展中之兩個步驟,以相同之有機溶劑進行反應,減少濃縮work-up步驟,簡化製程,及以便宜之醋酸酐/醋酸鹽進行脫水反應,為本技術之兩大特色。
*應用範圍 : 負型光阻劑感光性聚醯亞胺之光起始劑,為光阻劑之一種,大量被運用於IC製程與IC構裝,作為保護之介電層材料,包括晶圓級晶方尺度構裝材料,保護膜,介電膜,與光學膜等應用。

聯絡人 :工研院材化所應化組 鄭功龍
電話 : 03-5732549
傳真): 03-5732949
Email : KungLung@itri.org.tw
資料來源:工研院材化所
 
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